2020-11-02 00:00
ALD設備及樣品製備工法 提升分析精準度
ALD真空鍍膜技術對於半導體材料分析的重要性,業界形容,等同於EUV極紫外光對於晶圓廠,不可或缺。
汎銓科技在半導體材料分析(MA),技術領先業界,多年前開發、近期正式取得專利的ALD低溫真空鍍膜技術,可在樣品外形成保護層,避免樣品在電子束照射下產生變形,提升材料分析的精準度,也進一步確立在業界的領先地位。
董事長柳紀綸表示,ALD真空鍍膜技術在市場行之有年,晶圓廠使用大型ALD設備,為高溫製程,而汎銓研發小型ALD設備及樣品製備工法,用於分析實驗室,為接近常溫的低溫設計,產出速度快,是兩者最大的不同。
不是設備製造廠,卻憑著對半導體製程的了解,自力開發材料分析的ALD專用設備及樣品製備工法,汎銓再度證明沒有不可能的事,令外界刮目相看,也再次拉開領先對手的距離。
ALD低溫真空鍍膜設備對汎銓而言,是經過千錘百?的倚天劍、屠龍刀,柳紀綸表示,「這套設備自用、不外賣」。應用於此設備的樣品製備工法也是汎銓獨門利器,未說出口的是,汎銓經驗豐富的研發團隊,是讓設備淋盡致發揮功能的關鍵。<摘錄經濟-◎必◎富◎網◎小編整理、同質網站未經授權請勿直接複製>
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